Intel осваивает 14нм технологии по графику

[SAN_SAN_SAN]

Главный технический директор Intel, Justin Rattner, рассказал, что освоение 14 нм литографической технологии идёт в соответствии с графиком, а фабрики будут переведены на выпуск соответствующей продукции в ближайшие один-два года. Научно-технические достижения Intel позволят продлить действие закона Мура ещё на десять лет.

В конце 2013 года начнётся выпуск процессоров и однокристальных систем по 14 нм технологическим нормам. Производство будет сосредоточено на фабриках в Орегоне (D1X) и Аризоне (Fab 42), а также на заводе Fab 24 в Ирландии. Впоследствии, начиная с 2015 года, эти объекты будут постепенно переводиться на 10, 7 и 5 нм литографию.

Intel совместно с партнёрами работает над внедрением в производство кремниевых пластин типоразмера 450 миллиметров. В частности, гигант вложил средства в технологии литографии в глубоком ультрафиолете компании ASML, предполагающие использование пластин соответствующего размера.